Acest articol descrie parametrii fizici și caracteristicile produsului din grafitul poros al Vetek Semiconductor, precum și aplicațiile sale specifice în procesarea semiconductorului.
Acest articol analizează caracteristicile produsului și scenariile de aplicare ale acoperirii cu carbură de tantalum și acoperirea cu carbură de siliciu din perspective multiple.
Depunerea de film subțire este vitală în fabricarea de cipuri, creând micro dispozitive prin depunerea de filme sub 1 micron gros prin CVD, ALD sau PVD. Aceste procese construiesc componente semiconductoare prin alternarea filmelor conductoare și izolatoare.
Procesul de fabricație a semiconductorilor implică opt etape: prelucrarea plafonului, oxidarea, litografia, gravura, depunerea de film subțire, interconexiune, testare și ambalaje. Siliconul din nisip este prelucrat în napolitane, oxidate, modelate și gravate pentru circuite de înaltă precizie.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy