Procesul RTA/RTP

VeTek Semiconductor furnizează suport pentru napolitană pentru proces RTA/RTP, realizat din grafit de înaltă puritate și acoperire SiC cuimpuritate sub 5 ppm.

Cuptorul de recoacere rapidă este un fel de echipament pentru tratarea de recoacere a materialelor șiProcesul RTA/RTP, prin controlul procesului de încălzire și răcire al materialului, poate îmbunătăți structura cristalină a materialului, poate reduce stresul intern și poate îmbunătăți proprietățile mecanice și fizice ale materialului. Una dintre componentele de bază din camera cuptorului de recoacere rapidă este suportul pentru napolitană/receptor pentru napolitanepentru încărcarea napolitanelor. Ca încălzitor de napolitane în camera de proces, astaplacă de transportjoacă un rol important în tratamentul rapid de încălzire și egalizare a temperaturii.

Carbura de siliciu, nitrura de aluminiu și carbura de siliciu grafit sunt materiale disponibile pentru cuptorul de recoacere rapidă, iar alegerea principală de pe piață este grafitul șiacoperire cu carbură de siliciu ca materiale. 

Următoarele suntcaracteristicile și performanța excelentăde VeTek Semiconductor acoperit cu SiC RTA RTP purtător de plăci de proces:

-Stabilitate la temperaturi ridicate: Acoperirea SiC prezintă o stabilitate remarcabilă la temperatură ridicată, asigurând integritatea structurii și rezistența mecanică chiar și la temperaturi extreme. Această capacitate îl face foarte potrivit pentru procesele solicitante de tratament termic.

-Conductivitate termică excelentă: Stratul de acoperire SiC posedă o conductivitate termică excepțională, permițând o distribuție rapidă și uniformă a căldurii. Acest lucru se traduce printr-o procesare mai rapidă a căldurii, reducând semnificativ timpul de încălzire și sporind productivitatea generală. Prin îmbunătățirea eficienței transferului de căldură, acesta contribuie la o eficiență mai mare a producției și la o calitate superioară a produsului.

-Inerție chimică: Inerția chimică inerentă a carburii de siliciu oferă o rezistență excelentă la coroziune de la diferite substanțe chimice. Suportul nostru de plachete cu carbură de siliciu acoperit cu carbon poate funcționa în mod fiabil în diverse medii chimice, fără a contamina sau deteriora plachetele.

-Planeitatea suprafeței: Stratul de carbură de siliciu CVD asigură o suprafață foarte plană și netedă, garantând un contact stabil cu napolitanele în timpul prelucrării termice. Acest lucru elimină introducerea de defecte de suprafață suplimentare, asigurând rezultate optime de prelucrare.

-Ușoare și de înaltă rezistență: Suportul nostru de napolitană RTP acoperit cu SiC este ușor, dar posedă o rezistență remarcabilă. Această caracteristică facilitează încărcarea și descărcarea comodă și fiabilă a napolitanelor.

Cum să utilizați suportul de napolitană RTA RTP Process:

Receptorul și capacul receptorului cu acoperire SiC de la VeTek Semiconductor

Receptor RTA RTP RTA RTP suport de napolitană Tavă RTP (pentru tratamentul cu încălzire rapidă RTA) Tavă RTP (pentru tratamentul cu încălzire rapidă RTA) Receptor RTP Tavă de suport pentru napolitane RTP