Acoperirea cu carbură de tantal (TaC) poate prelungi semnificativ durata de viață a pieselor din grafit prin îmbunătățirea rezistenței la temperaturi ridicate, rezistenței la coroziune, proprietăților mecanice și capacităților de management termic. Caracteristicile sale de înaltă puritate reduc contaminarea cu impurități, îmbunătățesc calitatea creșterii cristalelor și sporesc eficiența energetică. Este potrivit pentru fabricarea semiconductoarelor și aplicațiile de creștere a cristalelor în medii cu temperatură ridicată, foarte corozive.
Acoperirile cu carbură tantalică (TAC) sunt utilizate pe scară largă în câmpul semiconductor, în principal pentru componentele reactorului de creștere epitaxială, componente cheie de creștere a cristalului, componente industriale la temperaturi ridicate, încălzitoare de sistem MOCVD și purtători de wafer.
În timpul procesului de creștere epitaxială de SiC, poate apărea defectarea suspensiei de grafit acoperit cu SiC. Această lucrare realizează o analiză riguroasă a fenomenului de defectare a suspensiei de grafit acoperit cu SiC, care include în principal doi factori: defectarea gazului epitaxial SiC și defectarea acoperirii cu SiC.
Folosim cookie-uri pentru a vă oferi o experiență de navigare mai bună, pentru a analiza traficul site-ului și pentru a personaliza conținutul. Prin utilizarea acestui site, sunteți de acord cu utilizarea cookie-urilor.Politica de confidențialitate