Știri

Știri din industrie

Cum îmbunătățește acoperirea sic rezistența la oxidare a carbonului de carbon?13 2024-12

Cum îmbunătățește acoperirea sic rezistența la oxidare a carbonului de carbon?

Articolul descrie proprietățile fizice excelente ale pâslă de carbon, motivele specifice pentru alegerea acoperirii SIC și metoda și principiul acoperirii SIC pe pâslă de carbon. De asemenea, analizează în mod specific utilizarea difractometrului cu raze X D8 Advance (XRD) pentru a analiza compoziția de fază a pâslei de carbon de acoperire SIC.
Trei tehnologii de creștere a cristalului SIC11 2024-12

Trei tehnologii de creștere a cristalului SIC

Principalele metode pentru creșterea cristalelor unice SIC sunt: ​​transportul vaporilor fizici (PVT), depunerea de vapori chimici la temperaturi ridicate (HTCVD) și creșterea soluției de temperatură ridicată (HTSG).
Aplicarea și cercetarea ceramicii din carbură de siliciu în domeniul fotovoltaicilor - Vetek Semiconductor02 2024-12

Aplicarea și cercetarea ceramicii din carbură de siliciu în domeniul fotovoltaicilor - Vetek Semiconductor

Odată cu dezvoltarea industriei fotovoltaice solare, cuptoarele de difuzie și cuptoarele LPCVD sunt principalul echipament pentru producerea de celule solare, care afectează în mod direct performanța eficientă a celulelor solare. Pe baza performanței complete a produsului și a costurilor de utilizare a produsului, materialele ceramice din carbură de siliciu au mai multe avantaje în domeniul celulelor solare decât materialele de cuarț. Aplicarea materialelor ceramice din carbură de siliciu în industria fotovoltaică poate ajuta foarte mult întreprinderile fotovoltaice să reducă costurile auxiliare ale investițiilor materialelor, să îmbunătățească calitatea și competitivitatea produsului. Tendința viitoare a materialelor ceramice din carbură de siliciu în câmpul fotovoltaic este în principal spre o puritate mai mare, o capacitate mai puternică de încărcare, o capacitate mai mare de încărcare și un cost mai mic.
Cu ce ​​provocări se confruntă procesul de acoperire CVD TaC pentru creșterea monocristalului SiC în procesarea semiconductorilor?27 2024-11

Cu ce ​​provocări se confruntă procesul de acoperire CVD TaC pentru creșterea monocristalului SiC în procesarea semiconductorilor?

Articolul analizează provocările specifice cu care se confruntă procesul de acoperire TAC CVD pentru creșterea unui singur cristal SiC în timpul procesării semiconductorilor, cum ar fi controlul sursei de materiale și puritatea, optimizarea parametrilor procesului, aderența acoperirii, întreținerea echipamentelor și stabilitatea procesului, protecția mediului și controlul costurilor, deoarece ca precum și soluțiile industriale corespunzătoare.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept