Acoperirea cu carbură de tantal (TaC) poate prelungi semnificativ durata de viață a pieselor din grafit prin îmbunătățirea rezistenței la temperaturi ridicate, rezistenței la coroziune, proprietăților mecanice și capacităților de management termic. Caracteristicile sale de înaltă puritate reduc contaminarea cu impurități, îmbunătățesc calitatea creșterii cristalelor și sporesc eficiența energetică. Este potrivit pentru fabricarea semiconductoarelor și aplicațiile de creștere a cristalelor în medii cu temperatură ridicată, foarte corozive.
Acoperirile cu carbură tantalică (TAC) sunt utilizate pe scară largă în câmpul semiconductor, în principal pentru componentele reactorului de creștere epitaxială, componente cheie de creștere a cristalului, componente industriale la temperaturi ridicate, încălzitoare de sistem MOCVD și purtători de wafer.
În timpul procesului de creștere epitaxială de SiC, poate apărea defectarea suspensiei de grafit acoperit cu SiC. Această lucrare realizează o analiză riguroasă a fenomenului de defectare a suspensiei de grafit acoperit cu SiC, care include în principal doi factori: defectarea gazului epitaxial SiC și defectarea acoperirii cu SiC.
Acest articol discută în principal avantajele și diferențele procesului respectiv ale procesului de epitaxie cu fascicul molecular și tehnologiilor de depunere în vapori metalo-organice.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy