Ştiri

Ştiri

Suntem bucuroși să vă împărtășim despre rezultatele muncii noastre, despre știrile companiei și să vă oferim evoluții în timp util și condiții de numire și demitere a personalului.
Cât de subțire poate face procesul Taiko să facă napolitane de siliciu?04 2024-09

Cât de subțire poate face procesul Taiko să facă napolitane de siliciu?

Procesul Taiko se referă la napolitane de siliciu folosind principiile sale, avantajele tehnice și originile procesului.
Cercetări ale procesului epitaxial SIC de 8 inci și proces de proces homoepitaxial29 2024-08

Cercetări ale procesului epitaxial SIC de 8 inci și proces de proces homoepitaxial

Cercetări ale procesului epitaxial SIC de 8 inci și proces de proces homoepitaxial
Plachetă cu substrat semiconductor: proprietățile materialelor siliciului, GaAs, SiC și GaN28 2024-08

Plachetă cu substrat semiconductor: proprietățile materialelor siliciului, GaAs, SiC și GaN

Articolul analizează proprietățile materialelor plăcilor de substrat semiconductor, cum ar fi siliciu, GaAs, SiC și GaN
Tehnologia de epitaxie la temperaturi joase bazate pe GAN27 2024-08

Tehnologia de epitaxie la temperaturi joase bazate pe GAN

Acest articol descrie în principal tehnologia epitaxială la temperaturi joase bazate pe GaN, inclusiv structura cristalină a materialelor bazate pe GAN, cerințele tehnologiei epitaxiale și soluțiile de implementare, avantajele tehnologiei epitaxiale la temperaturi joase bazate pe principii PVD și perspectivele de dezvoltare ale tehnologiei epitaxiale de temperatură joasă.
Care este diferența dintre CVD TAC și TAC sinterizat?26 2024-08

Care este diferența dintre CVD TAC și TAC sinterizat?

Acest articol introduce mai întâi structura moleculară și proprietățile fizice ale TAC și se concentrează pe diferențele și aplicațiile carburii de tantal sinterice și carbură de tantalum CVD, precum și a produselor populare de acoperire TAC ale Vetek Semiconductor.
Cum se pregătește acoperirea CVD TAC? - Veteksemicon23 2024-08

Cum se pregătește acoperirea CVD TAC? - Veteksemicon

Acest articol introduce caracteristicile produsului acoperirii TAC CVD, procesul de preparare a acoperirii TAC CVD folosind metoda CVD și metoda de bază pentru detectarea morfologiei de suprafață a acoperirii TAC CVD preparate.
X
Folosim cookie-uri pentru a vă oferi o experiență de navigare mai bună, pentru a analiza traficul site-ului și pentru a personaliza conținutul. Prin utilizarea acestui site, sunteți de acord cu utilizarea cookie-urilor. Politica de confidențialitate
Respinge Accepta