Știri din industrie

În creșterea monocristalelor de SiC și AlN folosind metoda transportului fizic al vaporilor (PVT), componentele cruciale precum creuzetul, suportul pentru semințe și inelul de ghidare joacă un rol vital. După cum este descris în Figura 2 [1], în timpul procesului PVT, cristalul de sămânță este poziționat în regiunea cu temperatură mai joasă, în timp ce materia primă SiC este expusă la temperaturi mai ridicate (peste 2400 ℃).

Substraturile din carbură de siliciu au multe defecte și nu pot fi procesate direct. O peliculă subțire de un singur cristal trebuie să fie cultivată pe ele printr -un proces epitaxial pentru a face napolitane pentru cip. Acest film subțire este stratul epitaxial. Aproape toate dispozitivele din carbură de siliciu sunt realizate pe materiale epitaxiale. Materialele epitaxiale omogene de carbură de siliciu de înaltă calitate stau la dezvoltarea dispozitivelor de carbură de siliciu. Performanța materialelor epitaxiale determină în mod direct realizarea performanței dispozitivelor din carbură de siliciu.

Carbura de siliciu remodelând industria semiconductorilor pentru aplicații de energie electrică și la temperaturi ridicate, cu proprietățile sale cuprinzătoare, de la substraturi epitaxiale până la acoperiri de protecție la vehicule electrice și sisteme de energie regenerabilă.

Puritate ridicată: stratul epitaxial de siliciu cultivat de depunerea de vapori chimici (CVD) are o puritate extrem de ridicată, o flatime de suprafață mai bună și o densitate de defecte mai mici decât napolitane tradiționale.

Carbură solidă de siliciu (SIC) a devenit unul dintre materialele cheie în fabricarea semiconductorilor datorită proprietăților sale fizice unice. Următoarea este o analiză a avantajelor și a valorii sale practice bazate pe proprietățile sale fizice și pe aplicațiile sale specifice în echipamentele semiconductoare (cum ar fi purtătorii de wafer, capetele de duș, inelele de focalizare etc.).