Tehnologie și soluții

Studii de caz

Tehnologie laser ghidată de apă: Prelucrare de precizie cu micro-găuri pentru substraturi SiC
01

Tehnologie laser ghidată de apă: Prelucrare de precizie cu micro-găuri pentru substraturi SiC

Descoperiți cum tehnologia laser ghidată de apă VeTek oferă găuri uniforme de Φ0,15 mm în substraturi SiC de 2 mm fără conicitate, HAZ minimă și randament ridicat pentru aplicații cu semiconductori.
Vezi mai mult
Soluție VETEK-AMAT Hollow Lift Pin: substrat de grafit de înaltă puritate cu acoperire CVD SiC
02

Soluție VETEK-AMAT Hollow Lift Pin: substrat de grafit de înaltă puritate cu acoperire CVD SiC

Cea mai dificilă problemă tehnică pentru știfturile de ridicare goale ale echipamentelor semiconductoare nu este acoperirea suprafeței exterioare, ci obținerea unei acoperiri CVD stabile și uniforme pe peretele interior al structurii goale. De la controlul uniformității acoperirii peretelui interior până la asigurarea curățeniei găurii interne, fiecare pas al procesului afectează direct randamentul plachetei. Acest articol analizează provocările de bază ale acoperirii peretelui interior cu știfturi goale de ridicare și căile tehnice cheie.
Vezi mai mult
X
Folosim cookie-uri pentru a vă oferi o experiență de navigare mai bună, pentru a analiza traficul site-ului și pentru a personaliza conținutul. Prin utilizarea acestui site, sunteți de acord cu utilizarea cookie-urilor. Politica de confidențialitate
RespingeAccepta