Serviciul de suport

VeTek Semiconductor furnizează plăci și substraturi monocristaline de nitrură de aluminiu (AlN) de înaltă calitate pentru dispozitivele semiconductoare cu bandă interzisă de ultimă generație. Cu o bandgap ultra-largă de aproximativ 6,2 eV, o conductivitate termică remarcabilă, izolație electrică excepțională și o potrivire excelentă a rețelei și expansiunii termice cu GaN, wafer-urile AlN sunt ideale pentru dispozitive RF de mare putere, electronice de putere de înaltă tensiune și optoelectronice cu ultraviolete adânci (DUV).

VETEK Professional Cleaning Service for CVD SiC Coated Graphite Parts este un serviciu tehnic specializat conceput pentru susceptorii echipamentelor Aixtron / Veeco MOCVD și componentele din grafit utilizate în procesele epitaxiale GaN / AlN / AlGaN. Procesul nostru de curățare proprietar elimină complet efectul de memorie a suprafeței, restabilește fluxul de gaz stabil în reactor și protejează strict acoperirea CVD SiC de 100 µm cu pierderi absolute de grosime zero și reziduuri metalice zero.

Pe măsură ce cererea pentru traductoare MEMS de înaltă sensibilitate și putere redusă crește odată cu extinderea comunicațiilor 5G, a dispozitivelor medicale de precizie și a dispozitivelor portabile inteligente, PZT-ul nostru pe wafer-uri Si/SOI oferă o soluție de material critic. Utilizând procese avansate de depunere a filmului subțire, cum ar fi Sol-gel sau pulverizare, obținem o consistență excepțională și performanțe piezoelectrice superioare pe substraturi de siliciu. Aceste plachete servesc ca nucleu fundamental pentru conversia energiei electromecanice.

Creșterea cristalelor de carbură de siliciu este un proces de bază în fabricarea dispozitivelor semiconductoare de înaltă performanță. Stabilitatea, precizia și compatibilitatea echipamentelor de creștere a cristalelor determină în mod direct calitatea și randamentul lingourilor de carbură de siliciu. Pe baza caracteristicilor tehnologiei Physical Vapor Transport (PVT), Veteksemi a dezvoltat un cuptor de încălzire cu rezistență pentru creșterea cristalelor de carbură de siliciu, permițând creșterea stabilă a cristalelor de carbură de siliciu de 6 inchi, 8 inchi și 12 inci, cu compatibilitate deplină cu sistemele de materiale conductive, semiizolante și de tip N. Prin controlul precis al temperaturii, presiunii și puterii, reduce eficient defectele cristalelor, cum ar fi EPD (Etch Pit Density) și BPD (Basal Plane Dislocation), oferind în același timp un consum redus de energie și un design compact pentru a îndeplini standardele înalte ale producției industriale la scară largă.

Slurry de lustruire CMP (Chemical Mechanical Polishing Slurry) este un material de înaltă performanță utilizat în fabricarea semiconductoarelor și prelucrarea de precizie a materialelor. Funcția sa de bază este de a obține planeitatea și lustruirea fină a suprafeței materialului sub efectul sinergic al coroziunii chimice și al șlefuirii mecanice pentru a îndeplini cerințele de planeitate și calitate a suprafeței la nivel nano. Aștept cu nerăbdare consultația dvs. ulterioară.

În calitate de producători și furnizori și furnizori chinezi din China, Vetek Semiconductor CVD SIC Coating Dummy Wafer este un instrument specializat în fabricarea semiconductorilor, utilizat în principal în scopul testării plafonului de siliciu și al procesului de testare a waferului. Întrebările dvs. suplimentare sunt binevenite.