Produse
Customized Graphite Heater For Hot Zone
  • Customized Graphite Heater For Hot ZoneCustomized Graphite Heater For Hot Zone

Customized Graphite Heater For Hot Zone

În fabricarea semiconductoarelor și procesarea avansată a materialelor, stabilitatea și puritatea câmpului termic dictează în mod direct competitivitatea de bază a produsului final. VETEK este dedicat cercetării și dezvoltării și producției de sisteme de încălzire cu grafit de înaltă performanță, oferind soluții fiabile pentru MOCVD, epitaxie SiC și diverse cuptoare cu vid de înaltă temperatură.

De ce să alegeți VETEK?


  ●Extreme Thermal Uniformity: Încălzitoarele VETEK sunt supuse unei simulări structurale precise și al designului pentru a asigura o consistență remarcabilă a temperaturii chiar și în medii extreme de până la 2200°C, sporind eficient randamentul plachetelor.

  ●High-Purity Material Assurance: Selectăm cu strictețe grafitul izostatic de înaltă puritate, menținând conținutul de cenușă la niveluri ultra-scazute pentru a elimina contaminarea cu ioni metalici la temperaturi ridicate de la sursă.

  ●Tehnologie avansată de acoperire: Folosind punctele forte ale VETEK, oferim acoperiri opționale SiC (Carbură de Siliciu). Acest lucru îmbunătățește semnificativ rezistența la oxidare și coroziune, asigurând o durată de viață mai lungă în medii dure cu gaze chimice.

  ●Personalizare de precizie: Fie că este vorba de structuri cilindrice, spirale sau complexe de discuri, VETEK oferă prelucrare de înaltă precizie bazată pe desenele dumneavoastră tehnice pentru a asigura o potrivire perfectă cu echipamentul dumneavoastră.

  ●Comprehensive Logistics Protection: Recunoscând natura fragilă a grafitului, VETEK și-a îmbunătățit sistemul de ambalare. Armatura noastră anti-șoc multistrat asigură „zero daune” în timpul tranzitului internațional, eliminând preocupările legate de întârzierile de producție.


Câmpurile de aplicare de bază

  ●Epitaxie semiconductoare: Componente de bază ale câmpului termic pentru echipamentele MOCVD (compatibile cu modelele principale precum K465i).

  ●Creșterea cristalelor de SiC: Controlul de precizie al câmpului termic pentru creșterea carburei de siliciu și a altor materiale semiconductoare cu bandă interzisă largă.

  ●High-Temperature Vacuum Equipment: Folosit pe scară largă în cuptoare de sinterizare în vid, lipire de precizie și echipamente de tratare termică de ultimă generație.

  ●Substrates for Advanced Coatings: Material de bază ideal pentru acoperiri CVD SiC, SiN sau SiO.


Specificatii tehnice

De asemenea, susținem materiale personalizate cu niveluri de puritate mai ridicate pentru condiții specifice de operare.


Specificatii tehnice
Valoarea de referință
Densitate în vrac
≥1,85 g/cm3
Conținut de cenușă
≤500 PPM
Duritate Shore
≥45
Rezistenta specifica
≤12 \muΩ⋅m
Rezistența la încovoiere
≥40 MPa
Rezistența la compresiune
≥70 MPa
Max. Dimensiunea boabelor
≤43 \mum
Thermal Expansion Coefficient (CTE)
≤4,4×10−6/∘C
Specificatii tehnice
Valoarea de referință

Veteksemicon Products Shop

Veteksemicon Products Shop

Hot Tags: Încălzitor personalizat din grafit pentru zonă fierbinte
Trimite o anchetă
Informatii de contact
Pentru întrebări despre acoperirea cu carbură de siliciu, acoperirea cu carbură de tantal, grafit special sau lista de prețuri, vă rugăm să ne lăsați e-mailul și vă vom contacta în termen de 24 de ore.
X
Folosim cookie-uri pentru a vă oferi o experiență de navigare mai bună, pentru a analiza traficul site-ului și pentru a personaliza conținutul. Prin utilizarea acestui site, sunteți de acord cu utilizarea cookie-urilor. Politica de confidențialitate
Respinge Accepta