Serviciu de curățare a pieselor din grafit de acoperire CVD SiC

1. Provocări cu care vă puteți confrunta

• Strat AlN greu de îndepărtat:Curățarea termică la 1300°C încă nu poate grava eficient stratul rezidual de AlN.

• Efect de memorie recurent:Efectul de memorie de suprafață determină un flux instabil de gaz în reactor, afectând consistența procesului.

• Ciclul de Curățare ImpacDebitul:De obicei, fiecare 16 cicluri de proces (4-5 susceptori) necesită curățare externă.

• Îngrijorare cu privire la deteriorarea acoperirii costisitoare:Lipsa experienței interne în curățarea chimică îi face pe operatori să ezite să încerce o curățare agresivă.

2. Soluția noastră – Proiectată pentru procesele GaN / AlN / AlGaN

• Curățenie profesională:Proces personalizat dezvoltat special pentru piese de grafit acoperite cu CVD SiC. Nu este necesară o formulă chimică de la client.

• Siguranța acoperirii:Protejează strict stratul de acoperire CVD SiC de 100 µm. Pierdere de grosime zero absolută după curățare.

• Rezultate verificabile:Certificat complet de analiză (COA) care acoperă cinci dimensiuni de bază. Date gata pentru arhivare și audit de calitate.

3. Cinci criterii de bază de acceptare

Aliniat strict cu cerințele critice ale utilizatorilor de epitaxie semiconductoare:

1. Zero pierdere de acoperire– Grosimea stratului de SiC nu este niciodată redusă după curățare (verificarea comparativă a grosimii pre/post).

2. Fără deformare a suprafeței– Planeitatea și acuratețea geometrică sunt inspectate cu strictețe pentru a asigura nicio deformare fizică.

3. Eliminați efectul de memorie– Analiza XPS pentru reziduul Al/Ga confirmă eliminarea completă a surselor de efect de memorie.

4. Zero reziduuri metalice– Testarea ICP-MS pentru Fe, Cu, Ni și alte metale verifică zero impurități metalice reziduale.

5. Fără particule în exces– Testul de particule QIII plus verificarea curățeniei previn instabilitatea fluxului de gaz cauzată de particulele reziduale.

4. Inspecție de livrare și Raport COA

Fiecare lot este livrat cu date complete de verificare în cinci dimensiuni de bază:

5. Produse aplicabile și contextul procesului

Parametrii produsului

Procesul de service

1. Anchetă– Trimiteți fotografii/model/cantitate piese pentru evaluare.

2. Citat– Evaluare tehnica si propunere detaliata de curatenie cu oferta.

3. Livrare– Trimiteți-ne piesele sau organizați serviciul de ridicare.

4. Curatenie– Curățare profesională + inspecție multidimensională completă.

5. Raport– Raport COA emis și piesele curățate returnate.

6. Urmărire– Urmărirea efectelor și asistență tehnică continuă.

6. De ce să alegeți serviciul de curățare VETEK?

VETEK combină experiența profundă în tehnologia de acoperire CVD SiC cu capacități de curățare specializate pentru susceptori de grafit de mare valoare. Înțelegem importanța critică a integrității acoperirii, controlului particulelor și purității procesului în epitaxia GaN/AlN. Serviciul nostru este conceput pentru clienții care au nevoie de siguranță absolută pentru acoperiri scumpe CVD SiC, rezolvând în același timp complet problemele legate de efectul de memorie și instabilitatea fluxului de gaz.

· Curățare de probă disponibilă pentru verificarea loturilor mici

· Raport complet COA furnizat la fiecare livrare

· Risc zero de deteriorare a stratului sau de contaminare nouă

· Profesional · Sigur · Verificabil