Ştiri

În industria de fabricație a semiconductorilor, pe măsură ce dimensiunea dispozitivului continuă să se micșoreze, tehnologia de depunere a materialelor de film subțire a reprezentat provocări fără precedent. Depunerea atomică a stratului (ALD), ca tehnologie de depunere a filmului subțire care poate obține un control precis la nivel atomic, a devenit o parte indispensabilă a producției de semiconductori. Acest articol își propune să introducă fluxul de proces și principiile ALD pentru a ajuta la înțelegerea rolului său important în fabricarea avansată a cipurilor.

Este ideal pentru a construi circuite integrate sau dispozitive semiconductoare pe un strat de bază cristalin perfect. Procesul de epitaxie (EPI) în fabricarea semiconductorilor își propune să depună un strat fin-cristalin fin, de obicei aproximativ 0,5 până la 20 microni, pe un substrat cu un singur cristalin. Procesul de epitaxie este un pas important în fabricarea dispozitivelor cu semiconductor, în special la fabricarea de napolitane de siliciu.

Principala diferență între epitaxie și depunerea stratului atomic (ALD) constă în mecanismele lor de creștere a filmului și în condițiile de operare. Epitaxia se referă la procesul de creștere a unei pelicule subțiri cristaline pe un substrat cristalin cu o relație de orientare specifică, menținând aceeași structură de cristal sau similară. În schimb, ALD este o tehnică de depunere care implică expunerea unui substrat la diferiți precursori chimici în secvență pentru a forma un strat atomic de film subțire la un moment dat.

Acoperirea CVD TAC este un proces de formare a unui strat dens și durabil pe un substrat (grafit). Această metodă implică depunerea TaC pe suprafața substratului la temperaturi ridicate, rezultând o acoperire cu carbură de tantal (TaC) cu stabilitate termică excelentă și rezistență chimică.

Pe măsură ce procesul de carbură de siliciu (SiC) de 8 inchi se maturizează, producătorii accelerează trecerea de la 6 inchi la 8 inchi. Recent, ON Semiconductor și Resonac au anunțat actualizări privind producția de SiC de 8 inchi.

Acest articol prezintă cele mai recente evoluții ale noului reactor CVD cu perete fierbinte PE1O8 al companiei italiene LPE și capacitatea sa de a efectua epitaxie uniformă 4H-SiC pe SiC de 200 mm.