Piedestal de cuarț fuzionat ALD

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal joacă un rol cheie în procesul de fabricație a semiconductorilor ca structură de sprijin pentrubarca de cuarț, care este folosit pentru a reținenapolitana. Piedestalul de cuarț fuzionat ajută la obținerea depunerii uniforme de film prin menținerea unei temperaturi stabile, ceea ce afectează în mod direct performanța și fiabilitatea dispozitivelor semiconductoare. În plus, Piedestalul de cuarț asigură distribuția uniformă a căldurii și a luminii în camera de proces, îmbunătățind astfel calitatea generală a procesului de depunere.

Avantajele materialului de piedestal de cuarț fuzionat ALD

Rezistență la temperatură ridicată: Punctul de înmuiere al piedestalului de cuarț topit este de aproximativ 1730 ° C și poate rezista la temperaturi ridicate de la 1100 ° C până la 1250 ° C pentru o lungă perioadă de timp și poate fi expus la medii cu temperaturi extreme de până la 1450 ° C pentru scurt timp.

Rezistență excelentă la coroziune: Cuarțul fuzionat este extrem de inert chimic pentru aproape toți acizii, cu excepția acidului hidrofluoric. Rezistența sa la acid este de 30 de ori mai mare decât ceramica și de 150 de ori mai mare decât oțelul inoxidabil. Cuarțul fuzionat este de neegalat chimic la temperaturi ridicate, ceea ce îl face un material ideal pentru procesele chimice complexe.

Stabilitatea termică: O caracteristică cheie a materialului de piedestal de cuarț fuzionat este coeficientul său extrem de scăzut de dilatare termică. Acest lucru înseamnă că poate face față cu ușurință fluctuațiilor dramatice de temperatură, fără crăpare. De exemplu, cuarțul de silice topită poate fi încălzit rapid la 1100°C și scufundat direct în apă rece fără deteriorare, o caracteristică importantă în condițiile de producție cu stres ridicat.

Proces de fabricație riguros: Procesul de producție al piedestalelor din silice topită respectă cu strictețe standardele înalte de calitate. Procesul de producție utilizează procese de formare la cald și sudare, care sunt de obicei finalizate într-un mediu de cameră curată clasa 10.000. Ulterior, piedestalul din sticlă de cuarț topită este curățat temeinic cu apă ultrapură (18 MΩ) pentru a asigura puritatea produsului și performanța optimă. Fiecare produs finit este riguros inspectat, curățat și ambalat într-o cameră curată de clasa 1.000 sau mai mare pentru a îndeplini standardele înalte ale industriei semiconductoarelor.

Material de cuarț de silice opacă de înaltă puritate

Piedestalul de cuarț topit VeTeksemi ALD utilizează material de cuarț opac de înaltă puritate pentru a izola eficient căldura și lumina. Proprietățile sale excelente de ecranare termică și de ecranare a luminii îi permit să mențină distribuția uniformă a temperaturii în camera de proces, asigurând uniformitatea și consistențaDepunerea de filmpe suprafața plafonului.

Câmpuri de aplicație

Piedestalele de cuarț fuzionate sunt utilizate pe scară largă în multe domenii ale industriei semiconductorilor datorită performanței lor excelente. ÎnProcesul de depunere a stratului atomic (ALD), susține un control precis al creșterii filmului și asigură avansarea dispozitivelor cu semiconductor. ÎnProcesul de depunere de vapori chimici de joasă presiune (LPCVD), Stabilitatea termică și capacitatea de protecție a luminii a piedestalului de cuarț de înaltă puritate oferă garanții pentru depunerea uniformă a filmelor subțiri, îmbunătățind astfel performanța și randamentul dispozitivului.

În plus, în procesul de wafer de difuzie, rezistența la temperatură ridicată și rezistența la coroziune chimică a piedestalului de cuarț fuzionat asigură fiabilitatea și consistența procesului de dopaj de material semiconductor. Aceste procese cheie determină performanța electrică a dispozitivelor semiconductoare, iar materialele de cuarț fuzionate de înaltă calitate joacă un rol indispensabil în obținerea celor mai bune rezultate ale acestor procese.

Magazine VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Piedestal: