Pânlă moale din fibră de carbon pe bază de PAN

1. Factori de performanță de bază

• Puritate ridicată:Grade de înaltă puritate cu conținut de cenușă menținut sub 20 ppm, pentru a preveni contaminarea în timpul creșterii semiconductorilor sensibili.
• Eficienta termica:Conductivitatea termică scăzută de 0,1-0,13 W/(m*k) la 25°C menține gradienții de temperatură stabili și reduce pierderile de energie.
• Rezistenta la caldura:Stabilitate sigură chiar și în medii care depășesc 2200°C.
• Integritate structurală:Procesul nostru de formare cu jet de aer menține fibrele uniforme. Acest lucru previne punctele fierbinți și oboseala materialului care perturbă adesea ciclurile lungi de creștere.  

3. Aplicații

Productie de semiconductori:Acesta este un strat de izolație cheie pentru configurațiile cuptoarelor de creștere a cristalelor de siliciu monocristalin și SiC.

Comunicații prin fibră optică:Ideal pentru utilizare în cuptoare de sinterizare, turnuri de tragere și producție de tije la temperatură înaltă.

Cercetare avansată:De încredere în cuptoarele de creștere a safirului și sistemele specializate de purificare la temperatură înaltă.

4. De ce să alegeți VETEK?

Debit mai rapid:Prin utilizarea materialelor cu căldură specifică scăzută, am făcut ciclul termic mult mai rapid - acest lucru vă crește direct debitul zilnic.

Protecție de încredere:Producția noastră se concentrează pe controlul strict al densității fibrelor; eliminăm punctele slabe, astfel încât să obțineți o ecranare fiabilă în întreaga cameră.

Standarde HPSI:Pentru procesele HPSI și RF, standardele noastre de înaltă puritate sunt concepute special pentru a face față acestor cerințe sensibile, de înaltă rezistivitate.
Instalare simplă:Deoarece materialul este în mod natural flexibil, poate fi tăiat cu precizie pentru a se potrivi cu geometrii complexe, ceea ce ajută cu adevărat la simplificarea întregului proces de instalare.