Susceptor de rotație de acoperire TAC

Susceptorul de rotație de acoperire TAC Vetek Semiconductor TAC este o componentă cheie pentru manipularea plafonului în procesarea semiconductorului. SaleTac ceNoastreAre o toleranță excelentă la temperatură ridicată (punct de topire până la 3880 ° C), stabilitate chimică și rezistență la coroziune, care asigură o precizie ridicată și o calitate ridicată în procesarea plafonului.

Susceptorul de rotație de acoperire TAC (susceptor de rotație de acoperire a carbonului tantal) este o componentă cheie a echipamentului utilizat în procesarea semiconductorului. Este de obicei instalat înDepunerea de vapori chimici (CVD)și echipament de epitaxie cu fascicul molecular (MBE) pentru a sprijini și roti napolitane pentru a asigura depunerea uniformă a materialului și reacția eficientă. Acest tip de produs îmbunătățește în mod semnificativ durata de viață și performanța echipamentului în medii de temperatură ridicată și corozivă prin acoperirea substratului cuAcoperire cu carbon tantal (TAC).

Susceptorul de rotație de acoperire TAC este de obicei compus din acoperire TAC și grafit sau carbură de siliciu ca material de substrat. TAC este un material ceramic cu temperatură ultra-ridicată, cu un punct de topire extrem de ridicat (punct de topire până la 3880 ° C), duritate (duritatea Vickers este de aproximativ 2000 HK) și rezistență excelentă la coroziune chimică. Vetek Semiconductor poate acoperi în mod eficient și uniform acoperirea de carbon cu tantal pe materialul substratului prin tehnologia CVD.

Susceptorul de rotație este de obicei din conductivitate termică ridicată și materiale de mare rezistență (grafit sauCarbură de siliciu), care poate oferi un sprijin mecanic bun și o stabilitate termică în medii la temperaturi ridicate. Combinația perfectă dintre cele două determină performanța perfectă a susceptitorului de rotație de acoperire TAC în susținerea și rotirea napolitane.

Susceptorul de rotație de acoperire TAC acceptă și rotește placa în procesul de CVD. Duritatea Vickers a TAC este de aproximativ 2000 HK, ceea ce îi permite să reziste la frecarea repetată a materialului și să joace un rol bun de susținere, asigurând astfel că gazul de reacție este distribuit uniform pe suprafața plafonului și materialul este depus uniform. În același timp, toleranța la temperatură ridicată și rezistența la coroziune a acoperirii TAC o permite să fie utilizată de mult timp în atmosfere la temperaturi ridicate și corozive, ceea ce evită efectiv contaminarea platoului și a purtătorului.

Mai mult, conductivitatea termică a TAC este de 21 W/M · K, care are un transfer de căldură bun. Prin urmare, susceptorul de rotație de acoperire TAC poate încălzi placa uniform în condiții de temperatură ridicată și poate asigura uniformitatea procesului de depunere a gazelor prin mișcare de rotație, menținând astfel consistența și calitatea înaltă aCreșterea plafonului.

Acoperire cu carbură de tantalum (TAC) pe o secțiune transversală microscopică：

Proprietăți fizice ale acoperirii TAC：

Magazine susceptitoare de rotație TAC: