CVD TAC Acoperirea creuzetului

Susceptorul de rotație de acoperire TAC joacă un rol cheie în procesele de depunere a temperaturii ridicate, cum ar fi CVD și MBE, și este o componentă importantă pentru procesarea waferului în fabricarea semiconductorilor. Printre ei,Acoperire TACAre o rezistență excelentă la temperatură ridicată, rezistență la coroziune și stabilitate chimică, ceea ce asigură o precizie ridicată și o calitate ridicată în timpul prelucrării plafonului.

Creuzetul de acoperire CVD TAC constă de obicei în acoperire TAC șigrafitsubstrat. Printre ele, TAC este un material ceramic cu punct de topire ridicat, cu un punct de topire de până la 3880 ° C. Are o duritate extrem de mare (duritate Vickers până la 2000 HV), rezistență la coroziune chimică și rezistență puternică de oxidare. Prin urmare, acoperirea TAC este un material excelent rezistent la temperaturi ridicate în tehnologia de procesare a semiconductorilor.

Substratul de grafit are o conductivitate termică bună (conductivitatea termică este de aproximativ 21 W/M · K) și o stabilitate mecanică excelentă. Această caracteristică determină faptul că grafitul devine o acoperire idealăsubstrat.

Crucible de acoperire CVD TAC este utilizat în principal în următoarele tehnologii de procesare a semiconductorilor:

Fabricarea plafonului: Creuzetul vetek cu semiconductor CVD TAC are o rezistență excelentă la temperatură ridicată (punct de topire până la 3880 ° C) și rezistență la coroziune, astfel încât este adesea utilizat în procesele de fabricație a plafonului cheie, cum ar fi depunerea vaporilor de temperatură ridicată (CVD) și creșterea epitaxială. În combinație cu stabilitatea structurală excelentă a produsului în medii de temperatură ultra-înaltă, se asigură că echipamentul poate funcționa stabil pentru o lungă perioadă de timp în condiții extrem de dure, îmbunătățind astfel eficient eficiența producției și calitatea napolitanelor.

Proces de creștere epitaxială: În procese epitaxiale, cum ar fiDepunerea de vapori chimici (CVD)și epitaxia fasciculului molecular (MBE), creuzetul de acoperire cu CVD TAC joacă un rol cheie în transportul. Acoperirea sa TAC nu poate menține doar puritatea ridicată a materialului sub temperatură extremă și atmosferă corozivă, dar, de asemenea, previne eficient contaminarea reactanților asupra materialului și coroziunea reactorului, asigurând exactitatea procesului de producție și a consistenței produsului.

Deoarece principalul producător și lider al creuzelor de acoperire a CVD TAC din China, Vetek Semiconductor poate oferi produse și servicii tehnice personalizate în funcție de cerințele echipamentelor și procesului. Sperăm sincer să devenim partenerul tău pe termen lung în China.

Acoperire cu carbură de tantalum (TAC) pe o secțiune transversală microscopică：

Proprietăți fizice ale acoperirii TAC：

Semiconductor Magazine CVD TAC pentru creuzetă ：