Borcan de clopot de cuarț cu grad de semiconductor

Borcanul de cuarț cu grad de grad semiconductor este confecționat din material de cuarț de înaltă puritate. Are o stabilitate termică excelentă și o rezistență puternică la coroziune și este utilizat în multe câmpuri. În industria semiconductorilor: borcanul de cuarț cu grad de grad de semiconductor oferă un mediu controlat pentru depunerea de film subțire pe napolitane în timpul depunerii de vapori chimici (CVD). Borcanul de clopot de cuarț cu grad de semiconductor este de asemenea utilizat în procese care necesită tehnologie de vid, cum ar fi producția de acoperiri optice, acoperiri metalice și alte tipuri de materiale cu film subțire. Borcanul cu cuarț cu grad de grad semiconductor este de asemenea necesar în multe experimente de știință fizică și materială care necesită un mediu de înaltă puritate, sigilat în vid.

Scenarii de utilizare a industriei semiconductoare:

Polisiliciul este un material de siliciu compus din multe granule mici, care este utilizat pe scară largă în circuite integrate, celule solare și alte domenii. Depunerea chimică în vapori (CVD) este una dintre principalele metode de preparare a siliciului policristalin. Principiul de bază este că gazul sursă de siliciu, cum ar fi SiH4, este descompus la temperatură ridicată și depus pe substrat pentru a forma siliciu policristalin:

SIHCL3 + H2 ⇒ SI + 3HCL

În condiții de temperatură ridicată și vid, gazul sursă de siliciu a fost introdus în depunerea de vapori chimici. Siliconul policristalin este obținut în cele din urmă. Borcanul de cuarț de grad semiconductor este o parte importantă a reactorului CVD de siliciu policristalin.

Reactor CVD de siliciu policristalin

Sub reacția la temperatură ridicată a CVD, borcanul cu clopot de cuarț de calitate semiconductor poate oferi un mediu termic uniform. Rezistența la temperaturi ridicate a materialului de cuarț de înaltă puritate (poate rezista la temperaturi de până la aproximativ 1100°C) îi permite să funcționeze stabil în reacțiile CVD și să asigure o distribuție uniformă a temperaturii în zona de reacție. În procesul CVD, există multe componente de gaz toxice, cum ar fi PH3, etc. Borcanul cu clopot de cuarț de calitate semiconductor poate izola eficient gazele chimice din camera de reacție de mediul extern pentru a preveni scurgerile de gaze nocive. Rezistența la coroziune a materialului de cuarț de înaltă puritate permite, de asemenea, altor materiale să funcționeze stabil pentru o lungă perioadă de timp în timpul procesului CVD și nu sunt ușor corodate sau deteriorate.

Borcanul de clopot de cuarț este utilizat în combinație cu tubul de conservare a căldurii de cuarț și cu barca de cuarț verticală și este utilizat mai ales în procesul epitaxial al producției de cipuri de circuit integrate cu semiconductor. Cuptorul epitaxial adoptă, în general, o structură verticală, cu borcanul de clopot de cuarț pe exteriorul bărcii de cuarț vertical și tubul de conservare a căldurii de cuarț ca suport.

O altă aplicare tipică a borcanului de clopot de cuarț cu grad semiconductor în mediu la temperatură ridicată: pentru a încălzi un lot de piese ortodontice la 704 ℃ în termen de 1 secundă într -o atmosferă inertă pentru brațarea ：

Vetek Semiconductor are o echipă tehnică matură. Indiferent de forma sau materialul de borcan de cuarț de înaltă puritate de care ai nevoie, îl putem adapta pentru tine.

Magazine de produse cu semiconductor Vetek: