Vâslă cantilever SiC

Sunteți bineveniți să veniți la semiconductorul nostru Vetek din fabrică pentru a cumpăra cele mai recente vânzări, preț scăzut și paletă SIC Cantilever de înaltă calitate. Așteptăm cu nerăbdare să cooperăm cu tine.

Caracteristici SIC Cantilever de la Vetek Semiconductor:

Stabilitate la temperaturi ridicate: capabil să-și mențină forma și structura la temperaturi ridicate, potrivite pentru procesele de procesare la temperaturi înalte.

Rezistență la coroziune: rezistență excelentă la coroziune la o varietate de substanțe chimice și gaze.

Rezistență și rigiditate ridicate: Oferă suport fiabil pentru a preveni deformarea și deteriorarea.

Avantaje ale paletei SIC Cantilever de la Vetek Semiconductor:

Precizie ridicată: precizia ridicată a procesării asigură o funcționare stabilă în echipamente automate.

Contaminare scăzută: materialul SiC de înaltă puritate reduce riscul de contaminare, ceea ce este deosebit de important pentru mediile de producție ultra-curate.

Proprietăți mecanice ridicate: capabil să reziste la medii de lucru dure, cu temperaturi ridicate și presiuni ridicate.

Aplicații specifice ale SiC Cantilever Paddle și principiul său de aplicare

Manipularea plachetelor de siliciu în fabricarea semiconductoarelor:

Sic Cantilever Paddle este utilizat în principal pentru a gestiona și susține napolitane de siliciu în timpul fabricării semiconductorilor. Aceste procese includ de obicei curățarea, gravarea, acoperirea și tratamentul termic. Principiul aplicației:

Manevrarea plachetelor de siliciu: SiC Cantilever Paddle este proiectat pentru a fixa și muta în siguranță plăcile de siliciu. În timpul proceselor de temperatură înaltă și de tratament chimic, duritatea și rezistența ridicată a materialului SiC asigură că placa de siliciu nu va fi deteriorată sau deformată.

Proces de depunere a vaporilor chimici (CVD):

În procesul de CVD, paleta Sic Cantilever este folosită pentru a transporta napolitane de siliciu, astfel încât filmele subțiri să poată fi depuse pe suprafețele lor. Principiul aplicației:

În procesul de CVD, paleta SiC Cantilever este utilizată pentru a repara placa de siliciu în camera de reacție, iar precursorul gazous se descompune la temperaturi ridicate și formează o peliculă subțire pe suprafața plafonului de siliciu. Rezistența la coroziune chimică a materialului SIC asigură o funcționare stabilă sub temperatură ridicată și mediu chimic.

Parametrul de produs al paletei SiC Cantilever

Magazine de productie:

Prezentare generală a lanțului industrial al epitaxiei Chip Epitaxy: