Ce este carbura de tantalum (TAC)？

Carbură de tantalum (TAC)este un compus binar de tantal (TA) și carbon (C), cu formula chimică exprimată de obicei ca TACₓ (unde X variază de la 0,4 la 1). Este clasificat ca un material ceramic refractar, cu duritate excelentă, stabilitate la temperatură ridicată și conductivitate metalică.

1. Structura carburii de tantalum

1.1 Compoziție chimică și structură de cristal

Carbura tantalum este un compus ceramic binar compus din tantal (TA) și carbon (C).

Structura sa de cristal este cubică centrată pe față (FCC), ceea ce îi conferă o duritate și stabilitate excelentă.

1.2 Proprietăți de legare

Lipirea covalentă puternică face ca carbura de tantal să fie extrem de dură și rezistentă la deformare.

TAC are un coeficient de difuzie extrem de scăzut și rămâne stabil chiar și la temperaturi ridicate.

Acoperire cu carbură de tantalum (TAC) pe o secțiune transversală microscopică

2. Proprietățile fizice ale carburii de tantalum

2.1 punct de topire ultra-ridicat

Cu un punct de topire de 3.880 ° C, carbura de tantalum are unul dintre cele mai mari puncte de topire ale oricărui material cunoscut, ceea ce duce la o stabilitate excelentă la temperaturi extreme.

2.2 Duritate excelentă

Cu o duritate MOHS de aproximativ 9-10, este aproape de diamant și, prin urmare, este utilizată pe scară largă în acoperirile rezistente la uzură.

2.3 Conductivitate electrică bună

Spre deosebire de majoritatea materialelor ceramice, TAC are o conductivitate electrică cu metal ridicat, ceea ce îl face valoros pentru aplicațiile din anumite dispozitive electronice.

2.4 Rezistența la coroziune și oxidare

TAC este extrem de rezistent la coroziunea acidului și își menține integritatea structurală în medii dure pe perioade lungi de timp.

Cu toate acestea, TAC se poate oxida la pentoxid de tantal (ta₂o₅) în aer peste 1.500 ° C. 

3. Produse comune cu carbură de tantal finisată

3.1 Piese acoperite cu carbură cu tantal

● Susceptitor acoperit cu carbură de tantal: Utilizat în epitaxie semiconductor și procesare la temperaturi ridicate.

● Piese de grafit acoperite cu carbură tantalică: Utilizat în cuptoarele cu temperaturi ridicate și în camerele de procesare a plafonilor. Exemple includ grafitul poros acoperit cu carbură de tantal, care îmbunătățește semnificativ eficiența procesului și calitatea cristalului prin optimizarea fluxului de gaz în timpul creșterii cristalului SIC, reducerea stresului termic, îmbunătățirea uniformității termice, îmbunătățirea rezistenței la coroziune și inhibarea difuziei impurității.

● Placă de rotație acoperită cu carbură tantalică: Placa de rotație acoperită cu TAC Veteksemicon are o compoziție de înaltă puritate, cu un conținut de impuritate mai puțin de 5 ppm și o structură densă și uniformă, care este utilizată pe scară largă în sistemul LPE EPI, sistemul Aixtron, sistemul Nuflare, sistemul Tel CVD, sistemul Veeco, sistemul TSI. Sisteme, sisteme TSI.

● Încălzitor acoperit cu TAC: Combinația dintre punctul de topire extrem de ridicat al acoperirii TAC (~ 3880 ° C) îi permite să funcționeze la temperaturi foarte ridicate, în special în creșterea straturilor epitaxiale de nitrură de galiu (GAN) în procesul de depunere a vaporilor chimici metalici (MOCVD).

● Creuzetă acoperită cu carbură cu tantal: Cruciabilele acoperite cu CVD TAC joacă adesea un rol cheie în creșterea cristalelor unice SIC de PVT.

3.2 Instrumente de tăiere și componente rezistente la uzură

● Instrumente de tăiere a carbului acoperit cu carbură de tantalum: Îmbunătățirea duratei de viață a sculei și a preciziei prelucrării.

● Dururi aerospațiale și scuturi de căldură: Oferiți protecție în medii de căldură extremă și corozive.

3.3 Carbură de tantalum Produse ceramice de înaltă performanță

● Sisteme de protecție termică pentru nave spațiale (TPS): Pentru nave spațiale și vehicule hipersonice.

● Acoperiri cu combustibil nuclear: Protejați peletele de combustibil nuclear de coroziune.

4. Aplicații de carbură Tantalum în fabricarea semiconductorilor

4.1 Transportatori acoperiți cu carbură (susceptor) pentru procese epitaxiale

Rolul: Acoperirile de carbură de tantalum aplicate purtătorilor de grafit îmbunătățesc uniformitatea termică și stabilitatea chimică în depunerea de vapori chimici (CVD) și în procesele de depunere a vaporilor chimici metalici (MOCVD).

Avantaj: contaminarea procesului redus și durata de viață extinsă.

4.2 Componente de etape și depunere

Inele de transfer și scuturi de transfer de wafer: acoperirea cu carbură de tantalum îmbunătățește durabilitatea camerelor de gravură cu plasmă.

Avantaj: rezistă la medii de gravură agresivă și reduce precipitațiile contaminante.

4.3 Elemente de încălzire la temperaturi ridicate

Aplicarea în creșterea CVD -ului SIC: Elementele de încălzire acoperite cu carbură de tantal îmbunătățesc stabilitatea și eficiența procesului de fabricație a plafonului de carbură de siliciu (SIC).

4.4 Acoperiri de protecție pentru echipamente de fabricație cu semiconductori

De ce ai nevoie de acoperire TAC?  Fabricarea semiconductorilor implică temperaturi extreme și gaze corozive, iar acoperirile cu carbură de tantalum sunt eficiente în îmbunătățirea stabilității și duratei de viață a echipamentelor.

5. De ce alegețiSemicon?

Semicon este un producător și furnizor de frunte deAcoperire cu carbură de tantalumMateriale pentru industria semiconductorilor din China. Principalele noastre produse se numără piese acoperite cu carbură de tantal CVD, piese acoperite cu TAC sinterizate pentru creșterea cristalului SIC sau procese de epitaxie semiconductoare. Veteksemicon este angajat să fie un inovator și lider în industria de acoperire a carburilor Tantalum prin intermediul cercetării și dezvoltării continue și iterația tehnologică.