Inel de acoperire pentru napolitană acoperită cu TaC

Avantajele tehnice de bază

• Rezistență chimică excepțională: Proiectat pentru a rezista la gaze dure de gravare (H₂, NH₃, HCl) la temperaturi cuprinse între 1200°C și 2000°C.

• Potrivirea expansiunii termice: Procesul nostru brevetat CVD asigură că acoperirea TaC are o potrivire CTE (Coeficient de expansiune termică) optimizată cu substratul de grafit, prevenind decojirea sau crăparea în timpul ciclării termice rapide.

• Control superior al particulelor: Prin etanșarea completă a grafitului poros, stratul de TaC elimină scurgerea particulelor, crescând direct randamentul plachetelor și reducând timpul de oprire a reactorului.

• Durată de viață extinsă: Suprafață foarte rezistentă la uzură, care rezistă ciclurilor repetate de curățare, oferind un cost de proprietate (CoO) semnificativ mai mic în comparație cu alternativele neacoperite sau acoperite cu SiC.

Acoperire cu carbură de tantal (TaC) pe o secțiune transversală microscopică

Parametrul de produs al inelului de acoperire pentru napolitană acoperită cu TaC

De ce să alegeți inelele noastre de acoperire TaC?

Înțelegem că în fabricarea semiconductorilor, fiabilitatea este egală cu rentabilitatea. Inelele noastre de acoperire pentru napolitană acoperită cu TaC sunt testate în loturi pentru densitatea și puritatea acoperirii. Indiferent dacă treceți de la producția de napolitane de 6 inchi la 8 inchi sau optimizați un proces MOCVD la temperatură înaltă, inelele noastre oferă ecranarea termică și chimică necesară pentru epitaxie de clasă mondială.