Grafit Ultra Pure Halfmoon inferior

Vetek Semiconductor este un producător profesionist dedicat furnizării de o jumătate de lună inferioară a grafitului Ultra pur. Produsele noastre Ultra Pure Pure Halfmoon inferior sunt concepute special pentru camerele epitaxiale SIC și oferă performanțe și compatibilitate superioară cu diverse modele de echipamente.

Caracteristici:

Conexiune: Vetek Semiconductor Ultra Pure Pure Halfmoon este proiectat să se conecteze cu tuburile de cuarț, facilitând fluxul de gaz pentru a conduce rotația bazei purtătorului.

Controlul temperaturii: Produsul permite controlul temperaturii, asigurând condiții optime în camera de reacție.

Design fără contact: Instalat în camera de reacție, Halfmoonul nostru Ultra Pure Pure Pure nu contactează direct napolitarii, asigurând integritatea procesului.

Scenariu de aplicare:

Halfmoonul nostru inferior de grafit ultra pur servește ca o componentă critică în camerele epitaxiale SIC, unde ajută la menținerea conținutului de impuritate sub 5 ppm. Prin monitorizarea îndeaproape a parametrilor, cum ar fi grosimea și uniformitatea concentrației de dopaj, asigurăm straturile epitaxiale de cea mai înaltă calitate.

Compatibilitate:

Vetek Semiconductor Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon este compatibil cu o gamă largă de modele de echipamente, inclusiv LPE, NAURA, JSG, CETC, NASO Tech și așa mai departe.

Vă invităm să vizitați fabrica noastră din China pentru a explora de înaltă calitate grafit ultra-pură de înaltă jumătate de lună.

Proprietăți fizice de bază ale acoperirii CVD SIC:

Comparați magazinul de producție semiconductor ：

Prezentare generală a lanțului industrial al epitaxiei Chip Epitaxy: