Tehnologie și soluții

Ghid de selecție

01 Limitele de performanță ale CVD SiC, TaC și SiC solid în procesele de epitaxie și gravare
05

01 Limitele de performanță ale CVD SiC, TaC și SiC solid în procesele de epitaxie și gravare

Selectarea corectă a SiC CVD, acoperire TaC sau SiC solid determină direct nivelurile de particule și durata de viață a componentelor pe liniile de epitaxie/gravare. Acest articol oferă limite clare de selecție în funcție de temperatură, atmosferă și proces, combinate cu soluții majore de înlocuire a echipamentelor și valori cheie, pentru a vă ajuta să luați decizii rapide și să reduceți riscul.
Vezi mai mult
X
Folosim cookie-uri pentru a vă oferi o experiență de navigare mai bună, pentru a analiza traficul site-ului și pentru a personaliza conținutul. Prin utilizarea acestui site, sunteți de acord cu utilizarea cookie-urilor. Politica de confidențialitate
RespingeAccepta