Produse
Pudră de SiC de înaltă puritate pentru creșterea cristalelor de SiC
  • Pudră de SiC de înaltă puritate pentru creșterea cristalelor de SiCPudră de SiC de înaltă puritate pentru creșterea cristalelor de SiC
  • Pudră de SiC de înaltă puritate pentru creșterea cristalelor de SiCPudră de SiC de înaltă puritate pentru creșterea cristalelor de SiC

Pudră de SiC de înaltă puritate pentru creșterea cristalelor de SiC

VeTek Semiconductor oferă pulbere de carbură de siliciu de înaltă puritate (SiC) de calitate superioară, adaptată special pentru creșterea cristalelor de SiC cu randament ridicat (procesul PVT), producția de substrat semiconductor și ceramică funcțională avansată. Procesată prin tehnologia de purificare ultra-curată, materia noastră primă SiC de înaltă puritate oferă niveluri excepțional de scăzute de urme de metal, performanță de sublimare reproductibilă și calitate extrem de constantă de la lot la lot pentru a îndeplini cerințele riguroase de fabricație a semiconductoarelor.

1. Caracteristici cheie

· Niveluri ridicate de puritate:Capacitățile de puritate ajung până la 99,9999% (grad 6N).

· Impurități metalice extrem de scăzute:Contaminare minimă cu urme de metal, optimizată pentru creșterea cristalelor de SiC.

· Transparență totală:Date complete de testare GDMS (Glow Discharge Mass Spectrometry) disponibile pentru fiecare lot.

· Performanță termică stabilă:Comportament de sublimare foarte previzibil și uniform în timpul perioadelor de creștere PVT.

· Distribuția controlată a dimensiunii particulelor:Granulometria monitorizată cu atenție pentru a menține o densitate constantă de ambalare.

· Formule personalizate:Dimensiuni personalizate ale particulelor și curbe de distribuție disponibile la cerere.

· Standard de calitate a semiconductorilor:Produs strict sub sisteme de management al calității semiconductoare.

       


2. Imagini vizuale ale produsului


3. Specificații tehnice

Proprietate
Valoare tipică
Material
Carbură de siliciu (SiC)
Puritate
99,99% – 99,9999%
Grad de puritate
4N – 6N+
Structura de cristal
α-SiC
Dimensiunea particulelor
Personalizabil (de exemplu, plasă de la micro până la grosier)
Analiza impurităților
Raport GDMS complet furnizat

4. Aplicații

· Creșterea cristalelor PVT SiC:Lingouri SiC conductive și semiizolante.

· Substraturi semiconductoare:Substrat de napolitană și materie primă de procesare epitaxială.

· Componente termice de ultimă generație:Componente ceramice avansate și acoperiri susceptoare.

· Aplicații R&D:Cercetare de ultimă generație în domeniul electronicii de putere și dispozitive de înaltă frecvență.


5. De ce să alegeți VeTek Semiconductor?

· Purificare proprie:Tehnici avansate de purificare care oferă o puritate de până la 6N pentru creșterea unui singur cristal.

· Control strict al calității:Asigurare dedicată a calității cu un control strict al contaminării la nivel de semiconductor.

· Flexibilitate de personalizare:Dimensionarea personalizată flexibilă a particulelor pentru a se potrivi diferitelor specificații ale creuzetului de cuptor PVT.

· Lanț de aprovizionare stabil:Capacitate de aprovizionare fiabilă care garantează o livrare stabilă pe termen lung a producției de masă.

· Expertiza tehnica:Asistență tehnică completă, adaptată proceselor dvs. specifice de creștere a cristalelor.


Hot Tags: Creștere de cristale SiC, pulbere de SiC de înaltă puritate, pulbere de creștere de cristale de SiC, creștere de cristale PVT SiC, material SiC semiconductor, pulbere de SiC de înaltă puritate, carbură de siliciu de înaltă puritate, semiconductor VeTek
Trimite o anchetă
Informatii de contact
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
X
Folosim cookie-uri pentru a vă oferi o experiență de navigare mai bună, pentru a analiza traficul site-ului și pentru a personaliza conținutul. Prin utilizarea acestui site, sunteți de acord cu utilizarea cookie-urilor. Politica de confidențialitate
RespingeAccepta