Procesul de gravare ICP/PSS

VeTek Semiconductor ICPPSS (Inductively Coupled Plasma Photoresist Stripping) Proces de gravare Wafer Carrier este proiectat special pentru a satisface cerințele exigente ale proceselor de gravare ale industriei semiconductoarelor. Cu caracteristicile sale avansate, asigură performanță optimă, eficiență și fiabilitate pe tot parcursul procesului de gravare.

Avantajul suspensiilor procesului de gravare ICP/PSS VeTek Semiconductor:

Compatibilitate chimică îmbunătățită: suportul pentru napolitană este construit folosind materiale care prezintă o compatibilitate chimică excelentă cu chimia procesului de gravare. Acest lucru asigură compatibilitatea cu o gamă largă de decapanți, decapanți și soluții de curățare, minimizând riscul de reacții chimice sau de contaminare.

Rezistență la temperaturi ridicate: suportul pentru napolitană este proiectat să reziste la temperaturi ridicate întâlnite în timpul procesului de gravare. Își menține integritatea structurală și rezistența mecanică, prevenind deformarea sau deteriorarea chiar și în condiții termice extreme.

Uniformitate superioară de gravare: suportul are un design proiectat cu precizie care promovează distribuția uniformă a agenților de gravare și a gazelor pe suprafața plachetei. Acest lucru are ca rezultat rate de gravare consistente și modele uniforme de înaltă calitate, esențiale pentru obținerea unor rezultate de gravare precise și fiabile.

Stabilitate excelentă a plachetelor: suportul încorporează un mecanism sigur de fixare a plachetelor care asigură o poziționare stabilă și previne mișcarea sau alunecarea plachetei în timpul procesului de gravare. Acest lucru garantează modele de gravare precise și repetabile, minimizând defectele și pierderile de randament.

Compatibilitate cu camerele curate: suportul pentru napolitane este proiectat pentru a îndeplini standardele stricte ale camerelor curate. Are o generație scăzută de particule și o curățenie excelentă, prevenind orice contaminare cu particule care ar putea compromite calitatea și randamentul procesului de gravare. Impuritatea este sub 5 ppm.

Construcție robustă și durabilă: suportul este proiectat folosind materiale de înaltă calitate cunoscute pentru durabilitatea și durata de viață lungă. Poate rezista utilizării repetate și proceselor de curățare riguroase fără a-și compromite performanța sau integritatea structurală.

Design personalizabil: oferim opțiuni personalizabile pentru a satisface cerințele specifice ale clienților. Suportul poate fi adaptat pentru a se adapta la diferite dimensiuni, grosimi și specificații de proces, asigurând compatibilitatea cu diferite echipamente și procese de gravare.

Experimentați fiabilitatea și performanța purtătorului nostru de plăci cu proces de gravare ICP/PSS, conceput pentru a optimiza procesul de gravare în industria semiconductoarelor. Compatibilitatea sa chimică îmbunătățită, rezistența la temperatură ridicată, uniformitatea superioară a gravării, stabilitatea excelentă a plachetelor, compatibilitatea cu camera curată, construcția robustă și designul personalizabil îl fac alegerea ideală pentru aplicațiile dvs. de gravare.

Placă de gravare PSS Placă de gravare ICP Susceptor de gravare ICP