Tub de cuptor cu cuarț pentru cuptor de difuzie

1. Caracteristici cheie și avantaje

• Cuarț topit dehidroxilat de puritate ultra-înaltă (SiO₂ ≥ 99,999%) cu impurități metalice controlate la niveluri de ppb și conținut extrem de scăzut de hidroxil

• Temperatura de functionare pe termen lung pana la 1100 °C; rezistență maximă pe termen scurt la 1200 °C

• Rezistență excelentă la șocuri termice după recoacere completă cu eliberare a tensiunii – rezistent la fisurare la schimbările rapide de temperatură

• Inerție chimică remarcabilă împotriva gazelor de proces oxidante, reducătoare și care conțin halogen; potrivit pentru plasmă și atmosfere corozive

• Degazare în vid foarte scăzută; peretele interior neted minimizează acumularea de produse secundare și susține repetabilitatea procesului

• Formare dintr-o bucată cu grosime uniformă a peretelui, coaxialitate ridicată și capete finisate cu precizie pentru etanșare fiabilă

• Structuri personalizabile: tuburi drepte, tuburi reductoare, tuburi cu flanșe, lungimi extinse și configurații speciale de capete pentru cuptoare verticale sau orizontale

2. Aplicații tipice

Tuburile pentru cuptor cu cuarț VeTek sunt utilizate pe scară largă ca cameră de reacție a miezului în:

• Cuptoare de oxidare termică (oxidare uscată/umedă)

• Cuptoare de difuzie pentru introducerea dopanților (B, P, As, etc.)

• Sisteme LPCVD pentru depunerea în peliculă subțire

• Recoacere în vid și alte procese de tratare termică la temperatură înaltă

• Compatibil cu platforme wafer de 4 inchi, 6 inchi, 8 inchi și 12 inchi (Si, SiC, GaN, substraturi de safir)

Aceștia acceptă linii logice, memorie, dispozitiv de alimentare, MCU, LED, MEMS și linii de producție de semiconductori cu bandă largă care necesită uniformitate stabilă a temperaturii, control al fluxului de gaz și medii de proces ultra-curate.

3. Parametrii tehnici cheie

• Material: cuarț topit dehidroxilat de calitate semiconductor (SiO₂ ≥ 99,999%), hidroxil scăzut, impurități metalice reduse

• Compatibilitate wafer: 4 / 6 / 8 / 12 inch

• Temperatura de lucru pe termen lung: −20 °C la 1100 °C; vârf pe termen scurt până la 1200 °C

• Proces: termoformare dintr-o singură bucată, omogenizare perete, finisare finală, recoacere cu eliberare a tensiunilor, test de scurgere de heliu, curățare ultra-curată

• Structuri disponibile: tub drept, tub reductor, tub cu flanșă, tub prelungit / cu lungime personalizată, configurații cu capete speciale

• Personalizare: diametrul interior/exterior, lungimea, grosimea peretelui, specificațiile flanșei și geometrii speciale conform desenelor clientului

4. De ce să alegeți tuburile pentru cuptor cu cuarț VeTek?

În calitate de producător profesionist de componente semiconductoare de cuarț, VeTek Semiconductor oferă:

• Tuburi de cuarț de înaltă puritate concepute pentru oxidare, difuzie, LPCVD și echipamente de recoacere

• Control strict al purității, acuratețea dimensională și curățenia potrivite pentru producția de camere curate Clasa 10 / Clasa 100

• Personalizare completă și modele compatibile cu OEM pentru cuptoarele cu tuburi verticale și orizontale

• Produse de cuarț semiconductoare complementare, inclusiv barci de napolitană, creuzete, căptușeli și alte componente de proces

Tuburile noastre de cuptor cu cuarț ajută la menținerea condițiilor termice și de flux de gaz stabile, la minimizarea contaminării cu particule și metale și la prelungirea duratei de viață în timpul ciclului continuu la temperatură ridicată, susținând un randament mai mare și un cost de proprietate mai mic în procesarea termică a semiconductorilor.