Cap de duș cu gaz SiC solid

Cap de duș cu gaz SiC solid

VeTek Semiconductor este o companie integrată dedicată cercetării, producției și vânzărilor. VeTek Semiconductor a lucrat la epitaxie semiconductoare, gravare și alte produse legate de proces de mulți ani, în special acoperirea CVD SiC, acoperirea CVD TaC și CVD Solid SiC sunt produsele noastre emblematice.

Capul de duș cu gaz solid SIC SIM Vetek este utilizat în mod obișnuit pentru a distribui uniform gazele precursoare pe suprafața substratului în timpul proceselor CVD cu semiconductor. Utilizarea materialului CVD-SIC pentru capete de duș oferă mai multe avantaje. Conductivitatea sa termică ridicată ajută la disiparea căldurii generate în procesul de CVD, asigurând o distribuție uniformă a temperaturii pe substrat. În plus, stabilitatea chimică a capului de duș CVD SIC îi permite să reziste la gaze corozive și medii dure întâlnite în mod obișnuit în procesele CVD. 

Designul capetelor de duș CVD SiC poate fi adaptat la anumite sisteme CVD și cerințe de proces. Cu toate acestea, acestea constau de obicei dintr-o placă sau o componentă în formă de disc cu o serie de găuri sau fante găurite cu precizie. Modelul găurilor și geometria sunt proiectate cu atenție pentru a asigura o distribuție uniformă a gazului și o viteză de curgere pe suprafața substratului.

Proprietăți fizice ale sicului solid