Carbură de siliciu solidă

Carbura de siliciu solidă VeTek Semiconductor este o componentă ceramică importantă în echipamentele de gravare cu plasmă, carbură de siliciu solidă (Carbură de siliciu CVD) părțile din echipamentul de gravare includinele de focalizare, duș cu gaz, tavă, inele de margine, etc. Datorită reactivității și conductivității scăzute a carburii de siliciu solide (carbură de siliciu CVD) la gazele de gravare care conțin clor și fluor, este un material ideal pentru inelele de focalizare ale echipamentelor de gravare cu plasmă și alte componente.

De exemplu, inelul de focalizare este o parte importantă plasată în afara plachetei și în contact direct cu placheta, prin aplicarea unei tensiuni inelului pentru a focaliza plasma care trece prin inel, concentrând astfel plasma pe plachetă pentru a îmbunătăți uniformitatea prelucrare. Inelul de focalizare tradițional este realizat din silicon saucuarţ, Siliciu conductiv ca material comun al inelului de focalizare, este aproape aproape de conductivitatea plachetelor de siliciu, dar lipsa este o rezistență slabă la gravare în plasmă care conține fluor, materiale pentru piesele mașinii de gravare adesea folosite pentru o perioadă de timp, vor exista serioase fenomen de coroziune, reducând serios eficiența producției.

SInel de focalizare SiCPrincipiul de lucru：

Working Principle of Solid SiC Focus Ring

Comparație între inelul de focalizare pe bază de Si și inelul de focalizare CVD SiC:

Comparație între inelul de focalizare pe bază de Si și inelul de focalizare CVD SiC
Articol	Si	CVD SiC
Densitate (g/cm³)	2.33	3.21
Interval de bandă (eV)	1.12	2.3
Conductivitate termică (W/cm℃)	1.5	5
CTE (x10^-6/℃)	2.6	4
Modulul elastic (GPa)	150	440
Duritate (GPa)	11.4	24.5
Rezistenta la uzura si coroziune	Sărac	Excelent

VeTek Semiconductor oferă piese avansate din carbură de siliciu solidă (carbură de siliciu CVD), cum ar fi inele de focalizare SiC pentru echipamentele semiconductoare. Inelele noastre de focalizare din carbură de siliciu solidă depășesc siliciul tradițional în ceea ce privește rezistența mecanică, rezistența chimică, conductibilitatea termică, durabilitatea la temperatură ridicată și rezistența la gravarea ionică.

Caracteristicile cheie ale inelelor noastre de focalizare SiC includ:

Densitate mare pentru rate reduse de gravare.

Izolație excelentă cu bandgap mare.

Conductivitate termică ridicată și coeficient scăzut de dilatare termică.

Rezistență superioară la impact mecanic și elasticitate.

Duritate ridicată, rezistență la uzură și rezistență la coroziune.

Fabricat folosinddepunere chimică de vapori îmbunătățită cu plasmă (PECVD)tehnici, inelele noastre de focalizare SiC îndeplinesc cerințele tot mai mari ale proceselor de gravare în fabricarea semiconductorilor. Sunt proiectate pentru a rezista la o putere și o energie mai mare a plasmei, în special înplasmă cuplată capacitiv (CCP)sisteme.

Inelele de focalizare SiC ale VeTek Semiconductor oferă performanță și fiabilitate excepționale în fabricarea dispozitivelor semiconductoare. Alegeți componentele noastre SiC pentru o calitate și eficiență superioare.

View as

CVD SIC Bloc pentru creșterea cristalului SIC

CVD SIC Block pentru creșterea cristalului SIC, este o nouă materie primă de înaltă puritate dezvoltată de Vetek Semiconductor. Are un raport ridicat de intrare-ieșire și poate crește cristale unice de carbură de siliciu de dimensiuni mari, de mare calitate, care este un material de a doua generație pentru a înlocui pulberea folosită pe piață astăzi. Bine ați venit pentru a discuta probleme tehnice.

Vezi mai mult >> Trimite o anchetă >>

SiC Crystal Growth New Technology

Carbura de siliciu de puritate ultra-înaltă a Vetek Semiconductor (SIC) formată din depunerea de vapori chimici (CVD) este recomandată pentru a fi utilizată ca material sursă pentru creșterea cristalelor de carbură de siliciu prin transportul fizic cu vapori (PVT). În noua tehnologie a creșterii cristalului SIC, materialul sursă este încărcat într -un creuzet și sublimat pe un cristal de semințe. Utilizați blocurile CVD-SIC de înaltă puritate pentru a fi ca sursă pentru creșterea cristalelor SIC. Bine ați venit pentru a stabili un parteneriat cu noi.

Vezi mai mult >> Trimite o anchetă >>

CVD SIC DUE Cap de duș

Vetek Semiconductor este un important producător de cap de duș CVD SIC și inovator în China. Suntem specializați în material SIC timp de mai mulți ani. Capul de duș SIC CVD este ales ca material inelar de focalizare datorită stabilității termochimice excelente, a rezistenței mecanice ridicate și a rezistenței la eroziunea plasmatică. Așteptăm cu nerăbdare să devenim partenerul dvs. pe termen lung în China.

Vezi mai mult >> Trimite o anchetă >>

Cap de duș sic

Vetek Semiconductor este un principal producător și inovator de cap de duș SIC în China. Suntem specializați în material SIC de mai mulți ani. Capul de duș al SIC este ales ca material inelar de focalizare datorită stabilității termochimice excelente, a forței mecanice ridicate și a rezistenței la eroziunea plasmatică. Așteptăm cu nerăbdare să devii partenerul tău pe termen lung în China.

Vezi mai mult >> Trimite o anchetă >>

Susceptor cilindric acoperit cu SiC pentru LPE PE2061S

Fiind una dintre cele mai importante fabrici de producție de susceptitori de wafer din China, Vetek Semiconductor a înregistrat progrese continue în produsele susceptor de wafer și a devenit prima alegere pentru mulți producători de wafer epitaxial. Susceptorul de butoi acoperit SIC pentru LPE PE2061S furnizat de Vetek Semiconductor este proiectat pentru LPE PE2061S 4 '' Wafers. Susceptorul are o acoperire durabilă de carbură de siliciu care îmbunătățește performanța și durabilitatea în timpul procesului LPE (Epitaxie în fază lichidă). Bine ați venit la întrebarea dvs., așteptăm cu nerăbdare să devenim partenerul dvs. pe termen lung.

Vezi mai mult >> Trimite o anchetă >>

Cap de duș cu gaz SiC solid

Capul de duș cu gaz solid SIC joacă un rol major în realizarea uniformă a gazului în procesul de CVD, asigurând astfel încălzirea uniformă a substratului. Vetek Semiconductor a fost profund implicat în domeniul dispozitivelor SIC solide de mai mulți ani și este capabil să ofere clienților capete de duș cu gaz solid personalizate SIC. Indiferent care sunt cerințele dvs., așteptăm cu nerăbdare ancheta dvs.

Vezi mai mult >> Trimite o anchetă >>

În calitate de profesionist Carbură de siliciu solidă producător și furnizor în China, avem propria noastră fabrică. Indiferent dacă aveți nevoie de servicii personalizate pentru a răspunde nevoilor specifice ale regiunii dvs. sau doriți să cumpărați avansați și durabil Carbură de siliciu solidă realizat în China, ne puteți lăsa un mesaj.

Cod QR

Despre noi

Produse

Contactaţi-ne

Telefon
+86-18069220752
Fax
+86-579-87223657
E-mail
anny@veteksemi.com
Abordare
Drumul Wangda, strada Ziyang, județul Wuyi, orașul Jinhua, provincia Zhejiang, China

Meniul Web

Căutare produs

Limba

Ieșiți din meniu

Carbură de siliciu solidă

Caracteristicile cheie ale inelelor noastre de focalizare SiC includ:

CVD SIC Bloc pentru creșterea cristalului SIC

SiC Crystal Growth New Technology

CVD SIC DUE Cap de duș

Cap de duș sic

Susceptor cilindric acoperit cu SiC pentru LPE PE2061S

Cap de duș cu gaz SiC solid

Trimite o anchetă

Cod QR

Despre noi

Produse

Contactaţi-ne

Telefon

Fax

E-mail

Abordare