Tehnologie și soluții

Tehnologie și soluții

01-03 VETEK | Metrici cheie pentru uniformitatea grosimii stratului de acoperire CVD SiC și controlul particulelor
05

01-03 VETEK | Metrici cheie pentru uniformitatea grosimii stratului de acoperire CVD SiC și controlul particulelor

După ce materialul este selectat, ceea ce decide adesea performanța sculei sunt valorile cuantificabile, cum ar fi uniformitatea grosimii, nivelul particulelor și puritatea. Acest articol organizează dimensiunile cheie ale calității acoperirii CVD SiC în acceptare și utilizare, ajutând la trecerea de la „potrivirile specificațiilor” la „raportul poate fi verificat și riscul poate fi anticipat.
Vezi mai mult
01-02 VETEK | Cum se selectează Acoperirea SiC, Acoperirea TaC sau SiC solid în funcție de condițiile de proces
06

01-02 VETEK | Cum se selectează Acoperirea SiC, Acoperirea TaC sau SiC solid în funcție de condițiile de proces

Acest articol subliniază limitele aplicațiilor și scenariile tipice ale acoperirii CVD SiC, acoperirii TaC și SiC solid în funcție de temperatură, atmosferă și tip de proces, ajutând inginerii de epitaxie și gravare să alinieze rapid ferestrele procesului în timpul selecției și să evite riscurile de particule și de viață din nepotrivirea stării materialului.
Vezi mai mult
01-01 VTEEK | Compatibilitate cu susceptori de grafit și soluții personalizate de înlocuire 1:1
07

01-01 VTEEK | Compatibilitate cu susceptori de grafit și soluții personalizate de înlocuire 1:1

Soluții de compatibilitate și înlocuire pentru susceptori și inele de preîncălzire Aixtron G10, Veeco, ASM. Acceptă personalizarea bazată pe desen 1:1, livrare rapidă pentru piesele standard, 3–6 săptămâni pentru piese personalizate, cu rapoarte de inspecție și evaluare a mostrelor.
Vezi mai mult
01 Limitele de performanță ale CVD SiC, TaC și SiC solid în procesele de epitaxie și gravare
08

01 Limitele de performanță ale CVD SiC, TaC și SiC solid în procesele de epitaxie și gravare

Selectarea corectă a SiC CVD, acoperire TaC sau SiC solid determină direct nivelurile de particule și durata de viață a componentelor pe liniile de epitaxie/gravare. Acest articol oferă limite clare de selecție în funcție de temperatură, atmosferă și proces, combinate cu soluții majore de înlocuire a echipamentelor și valori cheie, pentru a vă ajuta să luați decizii rapide și să reduceți riscul.
Vezi mai mult
X
Folosim cookie-uri pentru a vă oferi o experiență de navigare mai bună, pentru a analiza traficul site-ului și pentru a personaliza conținutul. Prin utilizarea acestui site, sunteți de acord cu utilizarea cookie-urilor. Politica de confidențialitate
RespingeAccepta