Plafon acoperit cu CVD SIC

Semiconductor Plafon acoperit cu CVD SICa fost utilizat pe scară largă în domeniul procesării semiconductorilor datorită performanței sale excelente. Nu numai că poate proteja eficient mediul camerei curate, dar poate îmbunătăți eficiența producției și poate reduce costurile de producție. Salutăm sincer consultarea dvs.

Rolul specific al Vetek SemiconductorPlafon acoperit cu CVD SICÎn domeniul procesării semiconductorilor este următorul:

Protecția mediului curat pentru cameră:

Anti-poluare: Suprafața acoperirii SIC este netedă și densă și nu este ușor de adsorb particule, ceea ce împiedică efectiv difuzarea particulelor în mediul camerei curate și asigură puritatea ridicată a produsului.

Rezistența la coroziune chimică: Acoperirea SIC poate rezista coroziunii acizilor puternici, alcalinilor puternici și a altor substanțe chimice, protejează structura plafonului și prelungește durata de viață a serviciului.

Control static:

Reduceți electricitatea statică: Acoperirea SIC are o conductivitate bună, ceea ce poate reduce eficient generarea și acumularea de energie electrică statică și poate reduce daunele electricității statice la dispozitivele semiconductoare.

Managementul termic:

Disiparea căldurii: Conductivitatea termică ridicată a SIC ajută la disiparea rapidă a căldurii, la reducerea temperaturii în camera curată și la asigurarea unui mediu de lucru stabil pentru instrumente și echipamente de precizie.

Rezistența la uzură: Extinderea duratei de viață: Acoperirea SIC are o duritate extrem de mare, ceea ce poate rezista efectiv la uzură, extinde durata de viață a plafonului și poate reduce costurile de întreținere.

În viitor, odată cu dezvoltarea continuă a tehnologiei semiconductoare,Tavane de acoperire SIC CVDva fi utilizat în mai multe domenii, oferind garanții mai fiabile pentru dezvoltarea industriei semiconductorilor.

Parametrul produsului:

Plafon acoperit cu CVD SICMagazine de producție:

Prezentare generală a lanțului industriei de epitaxie a cipului semiconductor：