CVD SIC Element de încălzire a acoperirii

Elementul de încălzire a acoperirii CVD SIC este utilizat în principal în echipamentele PVD (depunere de vapori fizici). În procesul de evaporare, materialul este încălzit pentru a obține evaporarea sau sputtering -ul și, în sfârșit, se formează o peliculă subțire uniformă pe substrat.

Ⅰ.Aplicație specifică

Depunerea de film subțire: Elementul de încălzire a acoperirii CVD SIC este utilizat în sursa de evaporare sau sursa de sputtering. Prin încălzire, elementul încălzește materialul pentru a fi depus la o temperatură ridicată, astfel încât atomii sau moleculele sale să fie separate de suprafața materialului, formând astfel vapori sau plasmă. Acoperirea noastră SIC bazată pe elemente de încălzire poate încălzi direct unele materiale metalice sau ceramice pentru a le evapora sau sublimat într -un mediu de vid pentru a fi utilizat ca sursă de material în procesul PVD. Deoarece structura are caneluri concentrice, poate controla mai bine calea curentă și distribuția căldurii pentru a asigura uniformitatea încălzirii.

Diagrama schematică a procesului PVD de evaporare

Ⅱ.Principiul de lucru

Încălzire rezistivă, când curentul trece prin calea de rezistență a încălzitorului acoperit SIC, se generează căldura joule, obținând astfel efectul încălzirii. Structura concentrică permite distribuirea uniformă a curentului. Un dispozitiv de control al temperaturii este de obicei conectat la element pentru a monitoriza și regla temperatura.

Ⅲ.Proiectare materială și structurală

Elementul de încălzire a acoperirii CVD SIC este realizat din grafit de înaltă puritate și acoperire SIC pentru a face față mediului la temperaturi ridicate. Grafitul de înaltă puritate în sine a fost utilizat pe scară largă ca material de câmp termic. După ce un strat de acoperire este aplicat pe suprafața grafitului prin metoda CVD, stabilitatea sa la temperatură ridicată, rezistența la coroziune, eficiența termică și alte caracteristici sunt îmbunătățite în continuare.

Proiectarea canelurilor concentrice permite curentului să formeze o buclă uniformă pe suprafața discului. Obține o distribuție uniformă a căldurii, evită supraîncălzirea locală cauzată de concentrația în anumite zone, reduce pierderea de căldură suplimentară cauzată de concentrația curentă și, astfel, îmbunătățește eficiența încălzirii.

Elementul de încălzire a acoperirii CVD SIC este format din două picioare și un corp. Fiecare picior are un fir care se conectează la sursa de alimentare. Vetek Semiconductor poate face părți dintr-o bucată sau părți împărțite, adică picioarele și corpul sunt făcute separat și apoi asamblate. Indiferent de cerințele pe care le aveți pentru încălzitorul acoperit cu CVD SIC, vă rugăm să ne consultați. Veteksemi poate oferi produsele de care aveți nevoie.

Proprietăți fizice de bază ale acoperirii CVD SIC ：