Susceptor RTP acoperit cu CVD SiC

Caracteristici

• Uniformitate termică - Difuzivitate termică ridicată a materialului permite un transfer rapid, uniform din punct de vedere spațial al căldurii, susținând profile repetabile ale temperaturii plachetei.
• Nivel de puritate ridicat – Acoperirea CVD SiC atinge o puritate de 99,99995%, reducând eficient riscurile de contaminare cu ioni mobili și metal în etapele critice ale procesului.
• Durabilitate chimică – Acoperirea prezintă o rezistență puternică la speciile corozive, inclusiv gazele pe bază de halogen, la temperaturi ridicate.l Intervale extinse de service – O rezistență sporită la oxidare și uzură se traduce prin mai puține înlocuiri și prin reducerea timpului de nefuncționare a sculei.
• Flexibilitate de proiectare – Dimensiunile și configurațiile pot fi adaptate pentru a se potrivi cu geometriile specifice camerei RTP și dimensiunile plachetelor.

Aplicații

• Procesare termică rapidă (RTP)
• Recoacere termică rapidă (RTA)
• Activarea dopantului Etape de oxidare și recoacere
• Fabricarea circuitelor integrate (IC).
• Fabricarea dispozitivelor de alimentare Tehnic

Specificații

De ce să alegeți VeTek Semiconductor?

· Proces intern de acoperire CVD SiC dezvoltat special pentru cerințele de calitate a semiconductorilor.

· Capacități integrate pentru purificarea grafitului, prelucrarea de precizie și controlul grosimii acoperirii.

· Aderență dovedită a stratului și uniformitate a stratului în producția în serie.

· Suport de inginerie pentru design susceptor personalizat compatibil cu principalele platforme de instrumente RTP.

· Inspecția riguroasă a materialelor primite, monitorizarea în timpul procesului și testarea finală a calificării asigură consistența de la lot la lot.