Cum să alegeți tava de grafit MOCVD?

Întrebarea 1: Ce este tava de grafit MOCVD și de ce este atât de important pentru procesul epitaxial?

Placa de grafit metal-organică de vapori chimici (MOCVD), cunoscută și sub denumirea de tavă de grafit MOCVD sau susceptitor de grafit MOCVD, este o componentă de înaltă puritate folosită pentru a repara napolitane cu semiconductor în timpul creșterii epitaxiale. În procesul epitaxial, acționează ca un element de încălzire și asigură o distribuție uniformă a temperaturii, care joacă un rol de neînlocuit în depunerea de filme subțiri în aplicații precum dispozitive semiconductoare avansate, fabricarea LED -urilor și celule solare.

Tava de grafit poate rezista la temperaturi extreme (până la 1.800 ° C) și medii de gaze corozive, ceea ce îl face un material indispensabil pentru sistemele MOCVD rezistente la coroziune. Performanța sa afectează în mod direct consistența procesului și randamentul waferului.

Întrebarea 2: Ce proprietăți material ar trebui prioritare la selectarea tăvilor de grafit MOCVD?

Selectarea plăcii de grafit potrivite necesită evaluarea proprietăților sale fizice și chimice:

● Puritate ridicată (peste 99,999%):

De obicei, impurități precum metale sau cenușă pot contamina procesul epitaxial. Alegerea unui furnizor de susceptitori de grafit de înaltă puritate, cum ar fi Veteksemicon, asigură defecte minime în epilayerul semiconductorului.

●  Stabilitate termică excelentă:

În timpul procesării efective, plăcile de grafit trebuie să poată rezista la anumite șocuri termice și să mențină integritatea structurală sub cicluri rapide de temperatură. Grafitul de înaltă densitate Veteksemicon asigură o distribuție uniformă a căldurii, care este esențială pentru creșterea uniformă a filmului.

●  Rezistență excelentă la coroziune:

În mediul procesului MOCVD, grafitul este în general expus la gaze corozive (de exemplu, amoniac, hidrogen). Plăcile de grafit MOCVD rezistente la coroziune la temperatură ridicată cu structură cu granulație fină minimizează coroziunea și prelungesc durata de viață.

●  Rezistență mecanică de înaltă performanță:

În procesul epitaxial, tăvile de grafit MOCVD trebuie să suporte mai multe napolitane fără deformare. Conform statisticilor Veteksemicon în procesarea efectivă, rezistența de îndoire a plăcii de grafit trebuie să fie ≥50 MPa pentru a preveni fisurarea tavii.

Q3: Cum afectează scenariul aplicației selecția tăvilor de grafit MOCVD?

Diferite procese MOCVD necesită proiecte de plăci de grafit personalizate:

●  Creșterea epitaxială a LED -urilor/fotonicii:

Plăcile de grafit Ultra-Smooth MOCVD sunt utilizate în procesul de epitaxie pentru a reduce generarea de particule și pentru a asigura straturi fără defecte.

De exemplu, plăcile de grafit veteksemicon MOCVD (sau plăcile de grafit Veteksemicon pentru MOCVD) sunt proiectate pentru epitaxia GAN și GAAS și oferă un management termic optimizat.

●  Fabricarea semiconductorilor de putere:

Combinate cu statisticile experimentale ale semiconductorului semikera, plăcile cu rezistență îmbunătățită la oxidare sunt în general preferate pentru procesele de carbură de siliciu (SIC) sau de nitrură de galiu (GAN).

●  Producție cu un randament ridicat:

Tăvile cu mai multe wafers necesită o prelucrare precisă pentru a se alinia cu proiectarea reactorului. Tăvi de grafit MOCVD personalizabile de la Fater Furnizor Semikera Semiconductor se pot potrivi cu configurații de instrumente specifice.

Q4: Care sunt considerentele cheie pentru găsirea unui furnizor fiabil de plăci de grafit MOCVD?

●  Certificare și testare:

Verificați dacă furnizorul oferă certificare a materialelor (de exemplu, raport de puritate, test de densitate) și oferă tratament de suprafață post-procesare (de exemplu, acoperire pentru a reduce porozitatea). În calitate de lider de acoperire cu semiconductor chinezesc și producător de echipamente de proces epitaxial, plăcile de grafit Veteksemicon MOCVD au fost certificate de departamentele guvernamentale pentru experimente limitate riguroase, iar rezultatele testelor de puritate și densitate ale produselor sale sunt cu mult înaintea colegilor săi.

●  Capacități de personalizare:

Furnizorii de susceptitori de grafit de înaltă puritate ar trebui să personalizeze dimensiunea, modelul de găuri și acoperirea pentru a îndeplini cerințele reactorului. Atât Veteksemicon, cât și Semikera Semiconductor au capacitățile de servicii de personalizare ale produselor și tehnologiilor conexe și sunt pe deplin capabile să răspundă diverselor nevoi personalizate.

●  Durata de viață și eficiența costurilor:

În timp ce grafitul mai ieftin poate economisi costuri în avans, plăcile de grafit inferior vor duce la înlocuirea frecventă și timpul de oprire, afectând serios eficiența normală a producției. Alegerea plăcilor de grafit Veteksemicon și alte produse de calitate va permite afacerii dvs. să realizeze o producție de încredere pe termen lung.

Q5: Cum să extindeți durata de viață a tăvilor de grafit MOCVD?

●  Preveni oxidarea: Utilizați purjarea de gaz inert în timpul ciclurilor de încălzire/răcire.

●  Curățați regulat: Utilizați metode non-abrazive (cum ar fi gravura uscată) pentru a elimina reziduurile depuse.

●  Evitați stresul mecanic: Gestionați cu atenție tava în timpul încărcării/descărcării plafonului.

Cel mai bun sfat al lui Veteksemicon pentru tine:

Pentru plăcile de grafit MOCVD care sunt rezistente la coroziunea la temperaturi ridicate, acordați prioritate furnizorilor cu expertiză în materiale de calitate semiconductor.

Probele de testare în condiții de proces reale pentru a verifica performanța.

Explorați acoperiri avansate (cum ar fi acoperirea SIC, acoperirea TAC) pentru a spori durabilitatea și fiabilitatea în medii extreme.

Pentru mai multe informații despre placa de grafit MOCVD de acoperire SIC, faceți clic aici.

Pentru mai multe informații despre acoperirea TAC MOCVD Placă de grafit, faceți clic aici.