Duză ceramică cu semiconductor

Duza ceramică semiconductoare joacă un rol important înProcesul HDP-CVD, folosit pentru a controla cu precizie debitul de gaz și a asiguradepunere de film de înaltă calitate. Spray -ul cu duză ceramică este conceput cu precizie pentru a asigura debituri de gaz consistente și controlabile, minimizând posibile turbulențe atunci când gazul intră în camera de reacție.

Specificatii tehnice:

1. Compoziția materialului:

Duza de nisip ceramică cu semiconductor Vetek sunt fabricate de obicei din ceramică semiconductoare, cum ar fi oxidul de aluminiu (AL2O3),carbură de siliciu (SiC)sau oxid de zirconiu (Zro2), aceste materiale au proprietăți excelente:

    • stabilitate termică ridicată (poate rezista la temperaturi peste 1000℃)

    • rezistenţa la coroziune de către gazele reactive utilizate înProcese CVD(cum ar fi silane, amoniac)

    • rezistenţa la expunerea continuă la plasmă.

2. Proiectare structurală:

    • Dimensiunea orificiului: orificiul duzei ceramice Semiconductor este proiectat științific pentru a permite controlul precis al fluxului de gaz, care la rândul său afectează uniformitatea și grosimea filmului.

    • Unghiuri și geometrii: Proiectate cu precizie pentru a asigura distribuția uniformă a gazului pe substrat, minimizând defectele stratului depus.

În industria semiconductoarelor, duza de sablare ceramică cu semiconductor joacă un rol cheie în primul rând în procesul HDP-CVD. De asemenea, sunt folosite pentru a depune pelicule subțiri pentru producția de microelectronice, asigurând acoperiri de suprafață de înaltă calitate, uniforme și lipsite de contaminanți.

Vetek Semiconductor Ceramic Duzzle Shops: